Ars Technica’nın haberine nazaran Senatör Tom Cotton ve Temsilci Michael McCaul, dün ABD Ticaret Bakanlığı tarafından elektronik tasarım otomasyonu (EDA) araçlarının “temel teknolojiler” olarak belirlenmesini talep etti. Etiket, EDA araçlarını Çinli şirketlere satmak isteyen şirketlerin ihracat lisansı almasını gerektirebilir. Kongre üyeleri ayrıyeten Ticaret Bakanı Gina Raimondo’ya yazdıkları mektupta, dünya çapında Amerikan yazılımlarını kullanan rastgele bir fabrikanın Çinli şirketlere 14nm yahut daha âlâ çip satmasının engellenmesini talep etti.
Yarı iletkenlerdeki mevcut son teknoloji 5 nm düğümü ve şu anda sadece Samsung ve Tayvanlı yarı iletken şirketi TSMC bu düğümde ticari olarak yongalar üretebiliyor. Çinli şirketleri 16 nm yahut daha büyük bir kapasiteyle sonlandırmak, muhtemelen onları dört kuşak boyunca son teknolojiden uzak tutabilir.
Yarı iletkenler, geçen yıl 300 milyar dolardan fazla çip ithal eden Çin için inanılmaz derecede kıymetli. Bu, ülkenin petrol ithalatına harcadığından daha fazla.
ABD hükümeti, Çinli şirketleri EDA araçlarından yoksun edecek olsaydı, bu ülkenin halihazırda geri kalmış yarı iletken sanayisine değerli bir darbe olurdu. Çinli yarı iletken üreticileri neredeyse büsbütün yabancı araçlara ve yazılıma bağımlıdır ve ülkenin kendi EDA yazılımı sekiz ila on yıl geride. ABD dışında da bulunan EDA şirketleri var, lakin kimi kestirimlere nazaran pazarın yaklaşık yüzde 90’ını denetim eden Cadence Design Systems ve Synopsys üzere şirketlerin olduğu kesimde Amerikan firmaları bilhassa baskın.
Her ne kadar son yıllarda SMIC üzere şirketler yüklü olarak TSMC ve Samsung’dan mühendisler işe alsa da Çin yarı iletken pazarı her vakit son teknonlojinin gerisinde kaldı. Şirket, 14 nm’de makul sayıda çip üretiyoru ve geçen yıl yüzde 57 daha verimli ve yüzde 20 daha süratli olduğunu söylediği “N + 1” düğümünü duyurdu. Lakin bu yeni süreçteki randımanın düşük olduğu bildiriliyor ve SMIC, fotolitografi şirketi ASML‘den Extreme Ultraviolet Lithography (EUV) makinesi alamazsa, muhtemelen bir çıkmaza girecek.
EUV, 5 nm yahut altında yarı iletkenler üretmek için gerekli. Teknoloji, özellikleri bir wafer üzerine kazımak için 13,5 nm UV ışığı kullanıyor. Mevcut derin ultraviyole araçları (DUV) 193 nm ışık kullanıyor. Sanayinin DUV’nin daha küçük düğümlerde çalışmasını sağlamak için uyguladığı zekice usullere karşın, DUV kullanılarak 7 nm’nin altındaki randımanlar ticari olarak uygulanabilir olamayacak kadar düşük verimlilikte.
Tekrar de SMIC’in ASML’nin en gelişmiş makinesini kullanması pek muhtemel değil. SMIC, 2018’de bir EUV makinesi siparişi verdi, fakat bu sipariş ASML’nin bulunduğu Hollanda’daki hükümet yetkilileri tarafından ertelendi. ABD hükümeti, sipariş verildikten çabucak sonra Hollandalı yetkililere satışı durdurmaları için baskı yapmaya başladı ve bir buçuk yıl evvel, ABD, Hollanda ve Japonya (burada Canon, gelişmiş litografi araçlarının diğer bir potansiyel tedarikçisidir) Çin’e gelişmiş yonga üretim ekipmanı satmamak için süreksiz bir mutabakat yaptı.
Cotton ve McCaul’un Çin’in gelişmiş EDA yazılımı edinmesini engelleme talebi, Çin’in tutkusunu daha da engellemesi olası. Yarı iletken üretimi giderek daha karmaşık hale geldikçe, yonga üretmek için gereken araçlar da yüksek bir süratle ilerliyor. Çin’in EUV almasının engellenmesi, ülkeyi muhtemelen on yıl yahut daha fazla geriye götürecektir. Çin hükümeti, yarı iletken sanayisini en ileri düzeye çıkarmak için 1 trilyon dolardan fazla para harcıyor, lakin yeniden de rüzgarla karşı karşıya. Örneğin, ASML’nin EUV araçlarının müşterilerin üretim sınırlarına takılmaya hazır hale gelmesi on yıldan fazla sürdü. Çinli şirketlerin EDA araçlarına erişimini kısıtlamak, sadece halihazırda büyük olan zorluklarını artıracaktır.